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半自動(dòng)無接觸硅片測試儀

半自動(dòng)無接觸硅片測試儀
 

半自動(dòng)無接觸硅片測試儀(HS-NCS-200SA型)可以測量硅片厚度、總厚度變化TTV、彎曲度、翹曲度、單點(diǎn)和總體平整度,該儀器適用于Si,GaAs,InP,Ge等幾乎所有的材料,強(qiáng)大的軟件功能能夠在幾秒內(nèi)測試硅片的厚度、總厚度變化TTV、彎曲度、翹曲度、單點(diǎn)和總體平整度,所有的設(shè)計(jì)都符合ASTM(美國材料實(shí)驗(yàn)協(xié)會(huì))和Semi標(biāo)準(zhǔn),確保與其他工藝儀器的兼容與統(tǒng)一??捎糜?5 mm, 100 mm, 125 mm, 150 mm, 200 mm多種尺寸。



半自動(dòng)無接觸硅片測試儀 - 產(chǎn)品特點(diǎn)

高性價(jià)比可替代全自動(dòng)
厚度測試無需重新校準(zhǔn)
標(biāo)準(zhǔn)Windows系統(tǒng)和友好界面
無與倫比的精確度和測量重復(fù)性
符合ASTM(美國材料實(shí)驗(yàn)協(xié)會(huì))和Semi標(biāo)準(zhǔn)
采用一鍵式硅片檢測,并生成三維硅片圖像
友好易用
標(biāo)準(zhǔn)的Windows系統(tǒng),易于安裝和使用。
每個(gè)測量和機(jī)械參數(shù)都可從選項(xiàng)表中進(jìn)行選擇,該控制軟件具有三個(gè)安全級(jí)別
從硅片生產(chǎn)環(huán)境到硅片幾何工程分析,同時(shí)系統(tǒng)對(duì)輸出數(shù)據(jù)進(jìn)行報(bào)表表格定制



半自動(dòng)無接觸硅片測試儀 - 技術(shù)指標(biāo)

晶圓硅片測試尺寸: 75 mm, 100 mm, 125 mm, 150 mm, 200 mm .

厚度測試范圍: 1000 u m , 可擴(kuò)展到 1700 um.
厚度測試精度: +/-0.25um
厚度重復(fù)性精度: 0.050umm

TTV 測試精度 : +/-0.05um
TTV 重復(fù)性精度 : 0.050um

彎曲度測試范圍: +/-500um [+/-850um]
彎曲度測試精度: +/-2.0umm
彎曲度重復(fù)性精度: 0.750umm

翹曲度測試范圍: +/-500um [+/-850um]
翹曲度測試精度: +/-2.0umm
翹曲度重復(fù)性精度: 0.750umm

平整度(總體)測試精度 : +/-0.05um
平整度(總體)重復(fù)性精度 : 0.030um

平整度(點(diǎn))測試精度 : +/-0.05um
平整度(點(diǎn))重復(fù)性精度 : 0.030um

晶圓硅片導(dǎo)電型號(hào): P 或 N 型
材料: Si , GaAs , InP , Ge 等幾乎 所有半導(dǎo)體材料
可用在: 切片后、磨片前、后, 蝕刻,拋光 以及出廠、入廠質(zhì)量檢測等
平面 / 缺口:所有的半導(dǎo)體標(biāo)準(zhǔn)平面或缺口
硅片安裝:裸片,藍(lán)寶石 / 石英基底, 黏膠帶



半自動(dòng)無接觸硅片測試儀 - 應(yīng)用范圍

> 切片
  >>線鋸設(shè)置
    >>>厚度
    >>>總厚度變化TTV
  >>監(jiān)測
    >>>導(dǎo)線槽
    >>>刀片更換
>磨片/刻蝕和拋光
  >> 過程監(jiān)控
  >> 厚度
  >>總厚度變化TTV
  >> 材料去除率
  >> 彎曲度
  >> 翹曲度
  >> 平整度
> 研磨
  >> 材料去除率
> 最終檢測
  >> 抽檢或全檢
  >> 終檢厚度



半自動(dòng)無接觸硅片測試儀 - 典型客戶

美國,歐洲,亞洲及國內(nèi)太陽能及半導(dǎo)體客戶。